| I giorno |
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| SESSIONE 1 - Coordinatore: A. Lausi |
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15.00
18.30 |
| R. Rosei | Introduzione alle applicazioni di LS allo studio dei materiali. |
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| G. Paolucci | LS: principi generali, caratteristiche e utilizzo. |
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| E. Busetto | componenti ottiche per LS: specchi e monocromatori. |
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| A. Lausi | Rivelatori per raggi X. |
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| II giorno |
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| SESSIONE 2 - Coordinatore: S. Mobilio |
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08.30
12.00 |
| S. Mobilio | Introduzione: metodologie e interpretazione dati EXAFS |
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| F. Boscherini | Applicazioni EXAFS allo studio di film sottili e superfici |
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| A. Balerna | Applicazioni EXAFS allo studio di materiali nanostrutturati |
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14.00
17.30
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G. Vlaic &
F. D'Acapito | Computer session
Software per analisi dei dati EXAFS e interpretazione. |
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17.30
19.00
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| Visita a ELETTRA |
20.00
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| Cena |
| III giorno |
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| SESSIONE 3 - Coordinatore: P. Scardi |
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09.00
12.30 |
| A. Fitch | SR diffraction techniques for the study of microstructure and properties of materials |
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| P. Scardi | Microstrutture di materiali nanocristallini: line profile analysis |
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| M. Leoni | Proprietà dei film sottili: analisi della tessitura e degli stress residui |
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15.00
18.30
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| M. Leoni, P. Scardi | Computer session
Software per analisi dei dati XRD e interpretazione. |
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| IV giorno |
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| SESSIONE 4 - Coordinatore: A. Benedetti |
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09.00
12.30 |
| A. Benedetti | Introduzione e elementi generali di teoria SAXS. |
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| S. Bernstorff | Scattering a basso angolo a incidenza radente da film sottili. |
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| A. Benedetti & P. Riello | Lo scattering anomalo per lo studio di cluster metallici; evoluzione dei sistemi sol-gel. |
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15.00
18.30
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P. Riello &
A. Benedetti | Computer session
Software per analisi dei dati SAXS e interpretazione. |
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